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डेविड

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जॉन मॉरिस

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जॉर्ज

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पेट्रा

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एड्रियन हैटर

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उच्च शुद्धता स्पटर कोटिंग टैंटलम लक्ष्य टैंटलम डिस्क लक्ष्य 99.95% 99.999%

उत्पत्ति के प्लेस	चीन
ब्रांड नाम	PRM
प्रमाणन	ISO9001
मॉडल संख्या	कस्टम
न्यूनतम आदेश मात्रा	1 पीसी
मूल्य	Negotiate
पैकेजिंग विवरण	प्लाईवुड केस
प्रसव के समय	7 ~ 10 कार्य दिवस
भुगतान शर्तें	टी/टी, एल/सी
आपूर्ति की क्षमता	5000 किग्रा / महीना

उत्पाद विवरण

नाम	टैंटलम स्पटर कोटिंग लक्ष्य	ग्रेड	RO5200, RO5400, RO5252, RO5255, Ta1, Ta2
पवित्रता	99.95% 99.99%	आकार	डिस्क एवं प्लेट
आकार	ग्राहक के चित्र के अनुसार	घनत्व	16.75 ग्राम/सेमी3

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उत्पाद विवरण

उच्च शुद्धता स्पटर कोटिंग टैंटलम लक्ष्य टैंटलम डिस्क लक्ष्य

1विनिर्देश स्पटर कोटिंग टैंटलम लक्ष्य सेः

स्पटर कोटिंग टैंटलम लक्ष्य

सामग्रीः R05200, R05400, R05252 (Ta-2.5W), R05255 (Ta-10W)

परिपत्र लक्ष्यः व्यास 25mm ~ 400mm x मोटाई 3mm ~ 28mm

आयताकार लक्ष्यः मोटाई 1mm ~ 12.7mm x चौड़ाई < 600mmx लंबाई < 2000mm

शुद्धताः >=99.95% या 99.99%

सतहः चमकदार, पॉलिश

स्थितिः एनील

हम आपके अनुरोध के अनुसार भी प्रक्रिया कर सकते हैं।

ग्रेड	3N, 3N5, 4N, 99.99% Tamin के साथ
पुनः क्रिस्टलीकरण	९५% मिनट
अनाज का आकार	एएसटीएम 4 या बेहतर
सतह खत्म	16Rms अधिकतम या Ra 0.4 (RMS64 या बेहतर)
समतलता	0.1 मिमी या 0.15% अधिकतम
सहिष्णुता	सभी आयामों पर +/-0.010"

उच्च शुद्धता स्पटर कोटिंग टैंटलम लक्ष्य टैंटलम डिस्क लक्ष्य 99.95% 99.999% 0

2रासायनिक संरचनास्पटर कोटिंग टैंटलम लक्ष्य सेः

ग्रेड	तत्व सामग्री ((wt%)
ग्रेड	सी	एन	ओ	H	फे	हाँ	नि	टि	मो	W	एनबी	ता
Ta1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	रहो
Ta2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	रहो
TaNb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	1.5~3.5	रहो
TaNb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17~23	रहो
TaNb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35~42	रहो
TaW2.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	2.0~3.5	0.5	रहो
TaW7।5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5~8.5	0.5	रहो
TaW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0~11	0.1	रहो

3आवेदनस्पटर कोटिंग टैंटलम लक्ष्य सेः

टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य दबाव प्रसंस्करण के माध्यम से प्राप्त एक टैंटलम शीट है। इसमें उच्च रासायनिक शुद्धता, छोटे अनाज आकार, पुनः क्रिस्टलीकृत संरचना और तीन अक्षों में अच्छी स्थिरता है।यह मुख्य रूप से ऑप्टिकल फाइबर में प्रयोग किया जाता है, अर्धचालक वेफर्स और एकीकृत सर्किट। स्पटर जमाव कोटिंग्स के लिए, टैंटलम लक्ष्यों का उपयोग कैथोड स्पटरिंग कोटिंग्स, उच्च वैक्यूम गेटर सक्रिय सामग्री आदि के लिए किया जा सकता है,और पतली फिल्म प्रौद्योगिकी के लिए महत्वपूर्ण सामग्री हैं.

4हमारे स्पटर कोटिंग लक्ष्य का लाभः

- उच्च गुणवत्ता वाली पॉलिश सतह।
- घनीकृत सूक्ष्म संरचना के साथ समान अनाज लंबे उपयोग समय सुनिश्चित करता है।

- पेशेवर बिक्री के बाद सेवा.

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