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मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग के लिए पीवीडी आर्क आयन मोलिब्डेनम टंगस्टन मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य
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xउत्पाद विवरण
| नाम | मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग पीवीडी आर्क आयन चढ़ाना के लिए टंगस्टन-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य | सामग्री | टंगस्टन मोलिब्डेनम मिश्र धातु |
|---|---|---|---|
| आकार | प्लेट लक्ष्य | मोटाई | 3 ~ 25 मिमी |
| चौड़ाई | 200 ~ 610 मिमी | लम्बाई | ≤1500 मिमी |
| सतह | पॉलिश | राज्य | annealed |
| प्रमुखता देना | मोलिब्डेनम टंगस्टन मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य,25 मिमी मोलिब्डेनम टंगस्टन लक्ष्य,पॉलिश मोलिब्डेनम टंगस्टन लक्ष्य |
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उत्पाद विवरण
वॉलफ्रेम-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य के लिए मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग पीवीडी आर्क आयन कोटिंग
1. टंगस्टन मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य के बारे में जानकारी पीवीडी के लिएः
वोल्फ्स्टन-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य एक उच्च शुद्धता वाले वोल्फ्स्टन और मोलिब्डेनम मिश्र धातु सामग्री है, जिसका व्यापक रूप से विभिन्न पतली फिल्म जमाव प्रौद्योगिकियों में उपयोग किया जाता है।नीचे मैं आपको विनिर्देशों के लिए एक विस्तृत परिचय दे देंगे, तकनीकी मापदंडों और वोल्फ्रेम-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य के उपयोग।
2विनिर्देशटंगस्टन मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट का लक्ष्य पीवीडी के लिएः
वोल्फ़ास्टेन-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य आमतौर पर एक निश्चित अनुपात में वोल्फ़ास्टेन और मोलिब्डेनम मिश्रण द्वारा बनाया जाता है।वोल्फ्रेम-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट का वोल्फ्रेम सामग्री लक्ष्य 80%-90% के बीच है, और मोलिब्डेनम सामग्री 10%-20% के बीच है।
इसके विनिर्देशों को आम तौर पर विभिन्न अनुप्रयोग आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित किया जाता है। आम आकारों में व्यास 50 मिमी, व्यास 100 मिमी, वर्ग 100 मिमी * 100 मिमी, आदि शामिल हैं।
| चौड़ाई, इंच (मिमी) | मोटाई, इंच (मिमी) | मोटाई सहिष्णुता, इंच (मिमी) |
| ≤12 (305) | ≥ 0.005~0.01 (0.13~0.25) |
±0.001(±0.0254) |
| ≥0.01~0.02 (0.25~0.51) | ±0.002 (±0.0508) | |
| ≥0.02 (0.51) | ±10% | |
| ≥12~14 (305~610) | ≥0.01~0.025 (0.25~0.64) | ±0.0025 (±0.0635) |
| ≥0.025 (0.64) | ±10% | |
| ≥24~30 (610~762) | ≥0.016~0.03 (0.41~0.76) | ±0.003 (±0.0762) |
| ≥0.03 (0.76) | ±10% | |
| ≥30~48 (762~1219) | ≥0.04 (1.02) | ±10% |
| ≥0.1875 (4.762) | ±10% |
3. तकनीकी मापदंडटंगस्टन मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट का लक्ष्य पीवीडी के लिएः
1) उच्च शुद्धता: वोल्गस्टेन-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य उच्च शुद्धता है, आमतौर पर 99.95% से अधिक तक पहुंचता है।
2) उच्च घनत्व: वोल्फ्रेम-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य का उच्च घनत्व होता है, आमतौर पर 18.5-19.0 ग्राम/सेमी3 के बीच होता है।
3) अच्छी थर्मल स्थिरता: टंगस्टन-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य में अच्छी थर्मल स्थिरता है और उच्च तापमान पर अपने भौतिक और रासायनिक गुणों को अपरिवर्तित रख सकता है।
4) अच्छा संक्षारण प्रतिरोधः वोल्फ्थेम-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य में अच्छा संक्षारण प्रतिरोध होता है और विभिन्न रासायनिक वातावरण में अपने स्थिर प्रदर्शन को बनाए रख सकता है।
4. आवेदनवोल्फ़्रेम मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्यः
1) पतली फिल्म जमावः वोल्फ्रेम-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य व्यापक रूप से विभिन्न पतली फिल्म जमाव प्रौद्योगिकियों में उपयोग किया जाता है, जैसे कि भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी),मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग (स्पटरिंग), आर्क आयन कोटिंग (आर्क आयन कोटिंग), आदि
इलेक्ट्रॉनिक उपकरणः वोल्फ्रेम-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य का उपयोग विभिन्न इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, जैसे कि फोटोकंडक्टिव उपकरण, सुपरकंडक्टिव सामग्री,अर्धचालक उपकरणआदि।
3) चिकित्सा क्षेत्र: वुल्फ़्स्टन-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य का व्यापक रूप से चिकित्सा क्षेत्र में भी उपयोग किया जाता है, जैसे कि रेडियोन्यूक्लाइड के उत्पादन के लिए।
अंत में, वोल्फ्रेम-मोलिब्डेनम मिश्र धातु प्लेट लक्ष्य अपनी उच्च शुद्धता, अच्छी थर्मल स्थिरता, संक्षारण प्रतिरोध और व्यापक अनुप्रयोग क्षेत्रों के कारण एक बहुत महत्वपूर्ण सामग्री है।
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