गोल मोलिब्डेनम उत्पाद मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए मोलिब्डेनम लक्ष्य मोलिब्डेनम डिस्क

वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए मोलिब्डेनम लक्ष्य

1वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए मोलिब्डेनम लक्ष्य विवरणः

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य, अर्थात् मोलिब्डेनम लक्ष्य, आमतौर पर मोलिब्डेनम पाउडर से सिंटर किए जाते हैं। ज्यादातर मामलों में यह एनोड से ही बनाया जाता है, जो सिंटर किए गए मोलिब्डेनम पाउडर है,और लक्ष्य एनोड द्वारा बनाई गई है. एनोड स्थिर या घूर्णन एनोड हो सकते हैं. अन्य मानक विधियों, रासायनिक वाष्प जमाव, या फिर जब फोकस एक घूर्णन एनोड पर है,इलेक्ट्रोलाइटिक जमाव एनोड पर मोलिब्डेनम परत जमा करने के लिए सक्षम बनाता है, पूरे एनोड सतह या सतह पर इस लक्ष्य का हिस्सा बनाने के लिए एक ट्रैक के साथ।

विभिन्न सब्सट्रेट पर, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग करके पतली फिल्में बनाई जा सकती हैं। इस स्पटरिंग फिल्म का व्यापक रूप से इलेक्ट्रॉनिक घटकों और इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों में उपयोग किया जाता है,जैसे कि वर्तमान में व्यापक रूप से उपयोग किए जाने वाले टीएफटी-एलसीडी (थिन फ्लिम ट्रांजिटर - लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले), पतली फिल्म अर्धचालक ट्यूब - तरल क्रिस्टल डिस्प्ले), प्लाज्मा डिस्प्ले स्क्रीन, अकार्बनिक प्रकाश उत्सर्जक डायोड डिस्प्ले, क्षेत्र उत्सर्जन डिस्प्ले, पतली फिल्म सौर सेल, सेंसर,अर्धचालक उपकरण, और फील्ड इफेक्ट ट्रांजिस्टर गेट्स के साथ ट्यून करने योग्य कार्य समारोह CMOS (पूरक धातु ऑक्साइड अर्धचालक), आदि

2वर्गीकरणवैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए मोलिब्डेनम लक्ष्य सेः

मोलिब्डेनम लक्ष्य के प्रकारों को वर्ग मोलिब्डेनम लक्ष्य, गोल मोलिब्डेनम लक्ष्य, मोलिब्डेनम प्लेट लक्ष्य,मोलिब्डेनम ट्यूब लक्ष्य और उनके आकार के अनुसार विशेष आकार के मोलिब्डेनम लक्ष्य. आवेदन क्षेत्र के अनुसार, यह एक्स-रे मोलिब्डेनम लक्ष्य, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य और कोटिंग लक्ष्य में विभाजित किया जा सकता है। हम उच्च प्रदर्शन प्रदान कर सकते हैं,उच्च गुणवत्ता वाले मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य, गोल मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य, आयताकार मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य ट्यूब, और मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य कैप।

वर्ग मोलिब्डेनम लक्ष्य उच्च पिघलने बिंदु, उच्च विद्युत चालकता, कम विशिष्ट प्रतिबाधा के साथ मोलिब्डेनम लक्ष्य उत्पादों में से एक है,अच्छा संक्षारण प्रतिरोध और अच्छा पर्यावरण प्रदर्शन.

परिपत्र मोलिब्डेनम लक्ष्य, जो विभिन्न सब्सट्रेट पर पतली फिल्मों का गठन कर सकता है, इस स्पटर फिल्म का व्यापक रूप से इलेक्ट्रॉनिक घटकों और इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों में उपयोग किया जाता है।

मोलिब्डेनम प्लेट लक्ष्य, मोलिब्डेनम प्लेट लक्ष्य की आम मोटाई 0.090 इंच ~ 3 इंच है, और इसकी सतह धातु चमक के साथ चांदी ग्रे है। आम विनिर्देश (मिमी) हैंः बीसीएम = 9.9 (0.3-10) (60-400) 800 या उससे अधिक.

मोलिब्डेनम घुमावदार लक्ष्य, मोलिब्डेनम घुमावदार लक्ष्य एक मैग्नेट्रॉन लक्ष्य है, आमतौर पर एक बेलनाकार आकार में बनाया जाता है, जिसमें एक स्थिर चुंबक होता है, जो ऑपरेशन के दौरान धीमी गति से घूमता है।

लेपित मोलिब्डेनम लक्ष्य में अच्छे गुण होते हैं, जिनमें उच्च तापमान पर अच्छा प्रदर्शन, उच्च तापमान भौतिक शक्ति, उच्च लोचदार मॉड्यूल शामिल है,उत्कृष्ट थर्मल चालकता और संक्षारण प्रतिरोधइसके परिणामस्वरूप, यह अक्सर कोटिंग उद्योग में कोटिंग सामग्री के रूप में उपयोग किया जाता है।

मोलिब्डेनम ट्यूब लक्ष्य एक आम मोलिब्डेनम लक्ष्य उत्पाद है। इसकी लंबाई आम तौर पर ≤3000mm है, इसकी बाहरी व्यास ≤250mm है, इसकी दीवार मोटाई 3-25mm है, इसकी सपाटता 0.1mm है,इसका आकार ट्यूबलर है, इसकी सतह चांदी-ग्रे है, और इसमें धातु की चमक है।

एक्स-रे मैमोग्राफी, मैमोग्राफी का प्रयोग चिकित्सा क्षेत्र में किया जा सकता है, स्तन की जांच के लिए, स्तन की एक्स-रे मैमोग्राफी जांच, जांच के गैर-आक्रामक साधन के रूप में,पूरे स्तन की संरचना को अधिक व्यापक और सटीक रूप से प्रतिबिंबित कर सकता है.

3उत्पादन शिल्पवैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए मोलिब्डेनम लक्ष्य सेः

मोलिब्डेनम लक्ष्य की उत्पादन प्रक्रिया सामान्य मोलिब्डेनम उत्पादों के समान है। मोलिब्डेनम लक्ष्य की उत्पादन कच्चा माल मोलिब्डेनम पाउडर है, जो एक अग्निरोधक धातु है,तो मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य की तैयारी की प्रक्रिया मुख्य रूप से पाउडर धातु विज्ञान पर आधारित है.

मोलिब्डेनम लक्ष्य की उत्पादन प्रक्रियाः

1उच्च शुद्धता वाले मोलिब्डेनम पाउडर का चयन करें, और ठंडे आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा कॉम्पैक्ट प्राप्त करें;

2एक ट्यूब रिक्त प्राप्त करने के लिए हाइड्रोजन या वैक्यूम वातावरण में सिंटरिंग;

3विभिन्न प्रक्रियाओं के माध्यम से विभिन्न मोलिब्डेनम लक्ष्य उत्पादों को ट्यूब रिक्त से प्राप्त किया जाता है। फ्लैट लक्ष्य मुख्य रूप से फोर्गेड और रोल्ड किया जाता है,जबकि घूर्णन लक्ष्य मुख्य रूप से फोर्जिंग और ड्राइंग द्वारा संसाधित किया जाता है;

4अंत में, तैयार उत्पाद को गर्मी उपचार और मशीनिंग द्वारा बनाया जाता है, जिसमें काटने, मोड़ने, चमकाने आदि शामिल हैं।

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