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xउत्पाद विवरण
| नाम | मैग्नेट्रॉन लक्ष्य के लिए मोलिब्डेनम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य | सामग्री | मोलिब्डेनम |
|---|---|---|---|
| पवित्रता | 99.95% | घनत्व | 10.2 ग्राम/सेमी3 |
| आकार | ट्यूब के प्रकार | आकार | ड्राइंग के अनुसार कस्टम |
| सतह | चमकदार | निर्यात बंदरगाह | चीन में कोई बंदरगाह |
| प्रमुखता देना | पीआरएम मोलिब्डेनम उत्पाद,ट्यूब मोलिब्डेनम उत्पाद,रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य |
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उत्पाद विवरण
मैग्नेट्रॉन लक्ष्य के लिए मोलिब्डेनम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य
1. मैग्नेट्रोन लक्ष्य के लिए मोलिब्डेनम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य का विवरण:
मोलिब्डेनम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य एक मैग्नेट्रोन लक्ष्य है, जो आमतौर पर अंदर एक स्थिर चुंबक के साथ एक बेलनाकार आकार में बनाया जाता है, जो ऑपरेशन के दौरान धीमी गति से घूमेगा।सामान्य उत्पाद विशिष्टताएँ इस प्रकार हैं: ID-133/OD-157x 3191mm;आईडी-133/ओडी-157 एक्स 3855मिमी;आईडी-160/ओडी-180x1800मिमी.हम विभिन्न नियमित आकारों में मोलिब्डेनम रोटरी लक्ष्य प्रदान करते हैं, और इसे ग्राहक की विशिष्ट आवश्यकताओं के अनुसार मशीनीकृत भी किया जा सकता है।
मोलिब्डेनम स्पिन स्पटरिंग लक्ष्य के रूप में कोटिंग सामग्री का उपयोग सीआईजीएस बैक संपर्कों या फ्लैट पैनल स्क्रीन (टीएफटी एलसीडी, ओएलईडी) के लिए पतली फिल्म ट्रांजिस्टर के लिए मोलिब्डेनम परतों का उत्पादन करने के लिए किया जाता है।मोनोलिथिक घूमने वाले लक्ष्यों में कोई लाइनर नहीं होता है और इसलिए वे 100% कोटिंग सामग्री से निर्मित होते हैं।ये लक्ष्य उच्च थ्रूपुट को सक्षम करते हुए स्पटरिंग प्रदर्शन में उल्लेखनीय सुधार कर सकते हैं।इस प्रकार, बढ़ी हुई सामग्री उपज बंधुआ घूर्णन लक्ष्यों की तुलना में कोटिंग प्रक्रिया में विनिर्माण लागत को भी कम कर देती है।
2. विशेषताएंमैग्नेट्रोन लक्ष्य के लिए मोलिब्डेनम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य:
इसमें अच्छे प्रदर्शन की आवश्यकताएं हैं, जैसे कि मोलिब्डेनम घूर्णन लक्ष्य का उपयोग तापमान 1800 डिग्री सेल्सियस है, उच्चतम उपयोग तापमान 2310 डिग्री सेल्सियस है, घनत्व 10.2 ग्राम / सेमी 3 है, और शुद्धता 99.95% है, इसलिए इसका उपयोग अक्सर किया जाता है सौर सेल, आर्किटेक्चरल ग्लास, ऑटोमोटिव ग्लास, सेमीकंडक्टर, फ्लैट-पैनल टीवी आदि की तैयारी।
3. लाभमैग्नेट्रोन लक्ष्य के लिए मोलिब्डेनम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य:
मोलिब्डेनम घूर्णन लक्ष्य मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य की उपयोग दर में सुधार करने की एक विधि है।मोलिब्डेनम प्लेनर लक्ष्य की तुलना में, मोलिब्डेनम घूर्णन लक्ष्य संरचना का डिज़ाइन मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य के पर्याप्त फायदे दिखाता है।लक्ष्य जीवनकाल को स्पटरिंग शक्ति समय स्पटरिंग समय, या सामग्री की कुल मोटाई के रूप में परिभाषित किया जा सकता है जिसे सब्सट्रेट पर जमा किया जा सकता है।मोलिब्डेनम फ्लैट लक्ष्य से मोलिब्डेनम रोटरी लक्ष्य तक ज्यामिति और डिजाइन में परिवर्तन ने लक्ष्य की उपयोग दर में वृद्धि की है, और उपयोग दर को मोलिब्डेनम फ्लैट लक्ष्य के 30% से 50% से बढ़ाकर मोलिब्डेनम रोटरी लक्ष्य के 80% तक बढ़ाया जा सकता है।इसके अलावा, यदि लक्ष्य सामग्री का जीवन स्पटरिंग शक्ति को स्पटरिंग समय से गुणा करके मापा जाता है, तो मोलिब्डेनम घूर्णन लक्ष्य का जीवन मोलिब्डेनम फ्लैट लक्ष्य की तुलना में 5 गुना अधिक है।चूंकि स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान मोलिब्डेनम रोटरी लक्ष्य लगातार घूमता रहता है, इसलिए इसकी सतह पर कोई भारी जमाव नहीं होगा।
4.रासायनिक सामग्रीमैग्नेट्रोन लक्ष्य के लिए मोलिब्डेनम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य:
| मात्रात्मक विश्लेषण | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| तत्व | नी | मिलीग्राम | फ़े | पंजाब | अल | द्वि | सी | सीडी | सीए | पी | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| एकाग्रता(%) | 0.003 | 0.002 | 0.005 | 0.0001 | 0.002 | 0.0001 | 0.002 | 0.0001 | 0.002 | 0.001 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| तत्व | सी | हे | एन | एस.बी | एस.एन. | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| एकाग्रता(%) | 0.01 | 0.003 | 0.003 | 0.0005 | 0.0001 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| शुद्धता (धातु आधार) मो≥99.95% | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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