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वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए 3410 ± 20 ℃ टंगस्टन उत्पाद लक्ष्य टंगस्टन लक्ष्य टंगस्टन गोल प्लेट लक्ष्य डब्ल्यू प्लेट
| नाम | वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन लक्ष्य | सामग्री | शुद्ध टंगस्टन |
|---|---|---|---|
| पवित्रता | 99.95% | घनत्व | 19.3 ग्राम/सेमी3 |
| गलनांक | 3410 ± 20 ℃ | सतह | पॉलिश |
| आकार | ग्राहक के चित्र के अनुसार | मानक | एएसटीएम बी 760 |
| प्रमुखता देना | पॉलिश टंगस्टन उत्पाद,ASTM B760 टंगस्टन उत्पाद,99.95% टंगस्टन लक्ष्य |
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वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन लक्ष्य
1. वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन लक्ष्य का विवरण:
टंगस्टन लक्ष्य क्या है?इसे टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य के रूप में भी जाना जाता है।यह कच्चे माल के रूप में शुद्ध टंगस्टन पाउडर से बना उत्पाद है।इसका स्वरूप चांदी जैसा सफेद है।इसमें उत्कृष्ट भौतिक और रासायनिक गुण हैं और यह कई क्षेत्रों में बहुत लोकप्रिय है।
एयरोस्पेस, दुर्लभ पृथ्वी गलाने, विद्युत प्रकाश स्रोत, रासायनिक और चिकित्सा उपकरण, धातुकर्म मशीनरी, गलाने वाले उपकरण, पेट्रोलियम और अन्य उद्योग मुख्य रूप से टंगस्टन लक्ष्यों को नियोजित करते हैं।
2.आकार और सहनशीलताकावैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन लक्ष्य:
| आइटम नाम | मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य |
| पवित्रता | 99.95% |
| आकार | आपके अनुरोध के अनुसार फ्लैट/रोटरी लक्ष्य |
| उपलब्ध आकार |
गोल: व्यास 25~300मिमी, मोटाई:<20मिमी आयताकार: लंबाई 1500 मिमी तक अनुकूलन उपलब्ध है |
| प्रमाण पत्र | ISO9001:2008, एसजीएस, तीसरी परीक्षण रिपोर्ट |
| तकनीक | गर्म आइसोस्टैटिक दबाव |
| आवेदन |
कोटिंग प्रसंस्करण उद्योगों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है ए: इलेक्ट्रॉनिक और सेमीकंडक्टर अनुप्रयोग। बी: सजावट और कोटिंग अनुप्रयोग।वगैरह। |
टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य एक मानक एनील के साथ निर्मित होता है
चौड़ाई सहनशीलता: +/-1/32"
लंबाई सहनशीलता: +1/16", -0"
सतह फ़िनिश: पॉलिश किया हुआ
मानक: एएसटीएम बी760
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3. विशेषताएंकावैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन लक्ष्य:
1) उच्च शुद्धता;सिंटरिंग और फोर्जिंग के बाद लक्ष्य की शुद्धता आम तौर पर 99.95% से अधिक तक पहुंच सकती है।सामान्य तौर पर लक्ष्य सामग्री की शुद्धता जितनी अधिक होगी, कोटिंग के विद्युत गुण उतने ही बेहतर होंगे और इसकी संभावना उतनी ही कम होगी कि संबंधित सर्किट बंद हो जाएगा या क्षतिग्रस्त हो जाएगा, बशर्ते कि अन्य कारक स्थिर रहें।
2) पाउडर धातु विज्ञान का उपयोग करके प्रत्यक्ष दबाव अधिक तेज़ी से और अपेक्षाकृत उचित लागत पर किया जा सकता है, जो उत्पादन चक्र को छोटा करके लागत बचा सकता है।
3) उच्च घनत्व;सिंटरिंग और फोर्जिंग के बाद, वांछित घनत्व 19.3g/cm3 से अधिक हो सकता है।
4) अल्ट्रा-फाइन शुद्ध टंगस्टन पाउडर से बने तैयार लक्ष्य में उच्च विक्षेपण शक्ति और आम तौर पर सजातीय और सुसंगत संरचना होती है।
5) उत्कृष्ट थर्मोकेमिकल स्थिरता;आयतन संकुचन या विस्तार, अन्य यौगिकों के साथ रासायनिक प्रतिक्रियाओं आदि के लिए प्रतिरोधी।
6) प्रतिरोध कम है और इससे सर्किट अनावश्यक ऊर्जा उत्पन्न नहीं करेगा।
इसके अतिरिक्त, यह गैर विषैला और गैर-रेडियोधर्मी है, और इसमें उच्च गलनांक, उच्च लोच, कम विस्तार गुणांक और कम वाष्प दबाव होता है।
4.सीरासायनिक रचनाकावैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन लक्ष्य:
| गुणवत्ता मानक (99.95% डब्ल्यू) | |||
| तत्व | मान (<पीपीएम) | तत्व | मान (<पीपीएम) |
| फ़े | 5 | एमओ | 10 |
| नी | 3 | पी | 1 |
| अल | 2 | सी | 5 |
| सी | 3 | हे | 3 |
| सीए | 3 | एन | 3 |
| मिलीग्राम | 2 | ||
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