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मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग के लिए गोल टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य टंगस्टन डिस्क टंगस्टन लक्ष्य टंगस्टन गोल स्टॉक
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xउत्पाद विवरण
| नाम | मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य | सामग्री | शुद्ध टंगस्टन |
|---|---|---|---|
| पवित्रता | 99.95% | घनत्व | 19.3 ग्राम/सेमी3 |
| आकार | गोल लक्ष्य | मोटाई | <20 मिमी |
| व्यास | 25 ~ 300 मिमी | सतह | पॉलिश |
| मानक | एएसटीएम बी 760 | ||
| प्रमुखता देना | गोल टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य,कस्टम टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य,टाइटेनियम टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य |
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उत्पाद विवरण
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य
1. मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य का विवरण:
टंगस्टन परत टीएफटी-एलसीडी स्क्रीन के पतली-फिल्म ट्रांजिस्टर का हिस्सा है।इनका उपयोग तब किया जाता है जब बड़े-स्क्रीन प्रारूप, अत्यधिक उच्च छवि स्पष्टता और अनुकूलित कंट्रास्ट अनुपात की आवश्यकता होती है।टंगस्टन लक्ष्य का उपयोग माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग में भी किया जाता है, उदाहरण के लिए आवृत्ति फिल्टर (सतह ध्वनिक तरंग फिल्टर (एसएडब्ल्यू), थोक ध्वनिक तरंग फिल्टर (बीएडब्ल्यू)) में कोटिंग बनाने के लिए।टंगस्टन लक्ष्य के लिए अन्य अनुप्रयोगों में टंगस्टन नाइट्राइड से बने प्रसार अवरोध, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक घटकों में कंडक्टर ट्रैक और ओएलईडी डिस्प्ले और इलेक्ट्रोकेमिकल अनुप्रयोगों के लिए टंगस्टन ऑक्साइड से बनी प्रतिक्रियाशील स्पटर वाली पारदर्शी परतें शामिल हैं।
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग प्रक्रिया (पीवीडी प्रक्रिया) में, स्पटरिंग लक्ष्य छोटे धातु के कणों को छोड़ता है जो लेपित होने वाली सामग्री (यानी सब्सट्रेट) पर जमा होते हैं, जिससे एक पतली फिल्म बनती है।यह कोटिंग प्रक्रिया किफायती और तेज़ है, जिसमें सभी सामग्रियों को सख्त गुणवत्ता मानकों को पूरा करना होगा।
2. आकार और सहनशीलतामैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य:
| आइटम नाम | मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य |
| पवित्रता | 99.95% |
| आकार | आपके अनुरोध के अनुसार फ्लैट/रोटरी लक्ष्य |
| उपलब्ध आकार |
गोल: व्यास 25~300मिमी, मोटाई:<20मिमी आयताकार: लंबाई 1500 मिमी तक अनुकूलन उपलब्ध है |
| प्रमाण पत्र | ISO9001:2008, एसजीएस, तीसरी परीक्षण रिपोर्ट |
| तकनीक | गर्म आइसोस्टैटिक दबाव |
| आवेदन |
कोटिंग प्रसंस्करण उद्योगों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है ए: इलेक्ट्रॉनिक और सेमीकंडक्टर अनुप्रयोग। बी: सजावट और कोटिंग अनुप्रयोग।वगैरह। |
अन्य आकार को ग्राहक के चित्र के अनुसार संसाधित किया जा सकता है।
टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य एक मानक एनील के साथ निर्मित होता है
चौड़ाई सहनशीलता: +/-1/32"
लंबाई सहनशीलता: +1/16", -0"
सतह फ़िनिश: पॉलिश किया हुआ
मानक: एएसटीएम बी760
3. रासायनिक संरचनामैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य:
| गुणवत्ता मानक (99.95% डब्ल्यू) | |||
| तत्व | मान (<पीपीएम) | तत्व | मान (<पीपीएम) |
| फ़े | 5 | एमओ | 10 |
| नी | 3 | पी | 1 |
| अल | 2 | सी | 5 |
| सी | 3 | हे | 3 |
| सीए | 3 | एन | 3 |
| मिलीग्राम | 2 | ||
4. आवेदनमैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य:
टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स और सूचना उद्योगों में उपयोग किए जाते हैं, जैसे एकीकृत सर्किट, सूचना भंडारण, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी, इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रण उपकरण, आदि;इनका उपयोग ग्लास कोटिंग के क्षेत्र में भी किया जा सकता है;इनका उपयोग पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, उच्च तापमान प्रतिरोध संक्षारण, उच्च अंत सजावटी उत्पादों और अन्य उद्योगों में भी किया जा सकता है।
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