अर्धचालक किस पदार्थ से बने होते हैं?अर्धचालकों के लिए मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

आज, स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग सेमीकंडक्टर उद्योग से लेकर एकीकृत सर्किट प्रसंस्करण में विभिन्न सामग्रियों के पतले फिल्म जमाव तक के विभिन्न प्रकार के अनुप्रयोगों में किया जाता है।स्पटरिंग विभिन्न आकृतियों और आकारों के सबस्ट्रेट्स पर विभिन्न प्रकार की सामग्रियों की पतली फिल्मों को जमा करने की एक स्थापित तकनीक है।स्पटर जमा फिल्मों में वांछित गुण प्राप्त करने के लिए, स्पटर लक्ष्य को बनाने के लिए उपयोग की जाने वाली निर्माण सामग्री और प्रक्रियाएं महत्वपूर्ण हैं।नीचे हम अर्धचालकों के लिए मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य पर एक नज़र डालते हैं।

टंगस्टन, मोलिब्डेनम, नाइओबियम, टाइटेनियम और सिलिकॉन जैसे शुद्ध धातु लक्ष्यों के अलावा, टंगस्टन, मोलिब्डेनम, टाइटेनियम, सिलिकॉन और टैंटलम जैसे मिश्र धातु लक्ष्य भी हैं, साथ ही ऑक्साइड या नाइट्राइड जैसे यौगिक भी हैं।सामग्री का निर्धारण करने की प्रक्रिया उतनी ही महत्वपूर्ण है जितनी कि बयान संचालन पैरामीटर जो इंजीनियरों और वैज्ञानिकों को कोटिंग प्रक्रिया के दौरान परिपूर्ण करते हैं।

अन्य निक्षेपण विधियों की तुलना में, थूक वाली फिल्म का सब्सट्रेट पर बेहतर आसंजन होता है, और अत्यधिक उच्च गलनांक जैसे मोलिब्डेनम और टंगस्टन वाली सामग्री भी आसानी से थूक जाती है।इसके अलावा, स्पटरिंग ऊपर से नीचे तक की जा सकती है, जबकि वाष्पीकरण केवल नीचे से ऊपर तक किया जा सकता है।

स्पटरिंग लक्ष्य आम तौर पर गोल या आयताकार होते हैं, लेकिन अन्य आकार भी उपलब्ध हैं, जिनमें वर्ग और त्रिकोणीय डिजाइन शामिल हैं।सब्सट्रेट लेपित होने वाली वस्तु है, जिसमें सेमीकंडक्टर वेफर्स, सौर सेल, ऑप्टिकल तत्व या कई अन्य संभावनाएं शामिल हो सकती हैं।कोटिंग की मोटाई आमतौर पर एंगस्ट्रॉम से लेकर माइक्रोन तक की सीमा में होती है।झिल्ली एक बहुपरत संरचना में एकल सामग्री या एकाधिक सामग्री हो सकती है।

उपयोग की एक विस्तृत श्रृंखला के साथ एक दुर्दम्य धातु के रूप में, मोलिब्डेनम में उत्कृष्ट यांत्रिक गुण, कम विस्तार, उच्च तापीय चालकता और उच्च तापमान पर अत्यधिक उच्च विद्युत चालकता है।स्पटरिंग लक्ष्य के रूप में, विभिन्न संयोजन हैं, जैसे कि शुद्ध मोलिब्डेनम लक्ष्य, मोलिब्डेनम टाइटेनियम लक्ष्य, मोलिब्डेनम टैंटलम लक्ष्य, मोलिब्डेनम मिश्र धातु लक्ष्य (जैसे TZM प्लेट)।

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य में उच्च शुद्धता, उच्च घनत्व, महीन और समान अनाज की विशेषताएं होती हैं, ताकि स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान अत्यधिक उच्च स्पटरिंग दक्षता, समान फिल्म मोटाई और चिकनी नक़्क़ाशी सतह प्राप्त हो सके।