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RO5200 Ta1 टैंटलम घूर्णन लक्ष्य टैंटलम ट्यूब लक्ष्य 100 मिमी सीवीडी पीवीडी के लिए

उत्पत्ति के प्लेस चीन
ब्रांड नाम PRM
प्रमाणन ISO9001
मॉडल संख्या कस्टम
न्यूनतम आदेश मात्रा 1pc
मूल्य Negotiate
पैकेजिंग विवरण प्लाईवुड केस
प्रसव के समय 5 ~ 7 दिन
भुगतान शर्तें टी/टी
आपूर्ति की क्षमता 5 टन / माह

नि: शुल्क नमूने और कूपन के लिए मुझसे संपर्क करें।

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यदि आपको कोई चिंता है, तो हम 24 घंटे ऑनलाइन सहायता प्रदान करते हैं।

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उत्पाद विवरण
नाम टैंटलम घूर्णन लक्ष्य ग्रेड RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
घनत्व 16.68 ग्राम/सेमी3 परमाण्विक भार 180.94788
स्पटरिंग विधि डीसी ऊष्मीय चालकता 57 डब्लू/एमके
हाई लाइट

सीवीडी टैंटलम घूर्णन लक्ष्य

,

Ta1 टैंटलम लक्ष्य

,

टैंटलम ट्यूब लक्ष्य 100 मिमी

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उत्पाद विवरण

उत्पाद की जानकारी:

 

टैंटलम ट्यूब लक्ष्य एक ट्यूबलर टैंटलम लक्ष्य है, जिसे टैंटलम घूर्णन लक्ष्य के रूप में भी जाना जाता है।

 

नाम टैंटलम घूर्णन लक्ष्य टैंटलम ट्यूब लक्ष्य
शुद्धता ≥99.95%
ग्रेड RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
घनत्व 16.68g/cm3
परमाणु भार 180.94788
स्पटरिंग विधि डीसी
थर्मल चालकता 57 W/m.K.
थर्मल विस्तार गुणांक 6.3 x 10-6 /K
आकार ओडीः 20~300 मिमी दीवार मोटाईः ≥ 0.5 मिमी

 

RO5200 Ta1 टैंटलम घूर्णन लक्ष्य टैंटलम ट्यूब लक्ष्य 100 मिमी सीवीडी पीवीडी के लिए 0RO5200 Ta1 टैंटलम घूर्णन लक्ष्य टैंटलम ट्यूब लक्ष्य 100 मिमी सीवीडी पीवीडी के लिए 1

 

Ta घुमावदार लक्ष्य का अनुप्रयोगः

 

टैंटलम ट्यूब लक्ष्य स्पटर जमाव के लिए एक उच्च शुद्धता वाले टैंटलम कच्चे माल है, जिसका उपयोग अर्धचालक में किया जा सकता है,रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) डिस्प्ले और ऑप्टिकल अनुप्रयोगविवरण इस प्रकार है:


- अर्धचालकों के लिए;
- रासायनिक वाष्प अवशेष (सीवीडी) प्रदर्शित करता है;
भौतिक वाष्प अवशेष (PVD) प्रदर्शित करता है;
- ऑप्टिकल अनुप्रयोग।

 

नोटःहम अनुकूलित सेवाएं प्रदान करते हैं. यदि आप अपने इच्छित लक्ष्य नहीं पा सकते हैं, तो कृपया हमसे सीधे संपर्क करें. हम आपकी आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित कर सकते हैं.

 

RO5200 Ta1 टैंटलम घूर्णन लक्ष्य टैंटलम ट्यूब लक्ष्य 100 मिमी सीवीडी पीवीडी के लिए 2

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